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多重曝光簡介
LVS 盒處理可幫助設計師迅速完成出色設計
【2016年12月雜誌】可穿戴醫療電子商機在何處?
用於類比/混合訊號 (AMS) 設計和驗證的 PDK
動態功率估算已達 SoC 設計限制
為什麼說 OS 是硬體模擬器的樞紐
Verilog-A 將設計精度推向一個新的水準
類比設計與圖形匹配:絕佳搭配
汽車設計應用手冊:開始應用於Traveo S6J342x汽車Cortex-R4 ARM® Cortex®-R5 MCU
【2016年11月雜誌】技術門檻高 5G打破一家獨大局面
使用 Calibre Pattern Matching 技術進行複雜的元件裝置驗證
使用 Calibre Pattern Matching 技術進行 DFM 線端強化
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